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トップページ > 企業情報 > プレテックの歴史 > minimal Shizuoka Fab.開設

minimal Shizuoka Fab.開設

 平成27年7月1日、静岡製作所B棟1階に『minimal Shizuoka Fab.』を開設し、つぎの8種類のミニマル装置を設置しており、それぞれの装置を実際に操作できるほか、ハーフインチサイズウェハの洗浄からレジストパターンの形成までデモンストレーションが行えるようになりました。

・ミニマルRCA洗浄装置
・ミニマルレジスト除去装置
・ミニマル硫酸過水洗浄装置
・ミニマル表面異物検査装置
・ミニマルコーター
・ミニマルマスクアライナー
・ミニマルディベロッパー
・ミニマルアルミウェットエッチャー


 minimal Shizuoka Fab.とは、国立研究開発法人産業技術総合研究所が中心となって活動を推進する「ミニマルファブ構想(注)」のコンセプトに基づいて設計された半導体デバイス製造用装置を設置した施設です。

(注)ミニマルファブ構想とは、半導体製造プロセスの技術革新を行うものであり、製造装置の小型化やクリーンルームを不要とすることで大幅な省エネ化を図るとともに、1ラインあたりの設備投資額を数億円(従来の1/1000程度)、ウェハサイズもハーフインチサイズ(従来の1/1000程度)として、更なる多品種少量といった潜在的な半導体生産ニーズに柔軟に適応可能とすることを目的とした構想である。


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