精密洗浄の最先端テクノロジーを提供する 株式会社プレテック

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ミニマルウェット処理装置


半導体製造工程において、洗浄やエッチングといったウェット処理は幾度となく繰り返される工程であり、欠かすことのできない最重要工程の一つとされています。私たちプレテックはそのウェット処理工程を産業技術総合研究所の提唱する”ミニマルファブ”という枠組みの中で体現しております。
ミニマルファブはハ-フインチウェ-ハ(ハ-フインチは12.5mm)を製造基板単位とする革新的な半導体製造生産システムのことです。
 
 
特徴
RCA洗浄装機は、装置内に2つの処理室を備えることで1台の装置で酸工程とアルカリ工程の処理が可能です。
シリンジポンプによる超微量液供給方式により、洗浄液やエッチング液といった処理液の供給を高精度にコントロール可能です。
昇温プロセスと常温プロセスの選択が可能です。
昇温プロセスでは、ウェ-ハの下面より専用のハロゲンランプを用いてウェ-ハ上の処理液を加熱します。
ミニマル用特殊超音波振動子を搭載し、高清浄洗浄をサポートします。
除害筒を搭載し、処理中に発生する有害な排気を装置内で無害化します。

 プレテックのミニマルウェット処理装置ラインアップ

・RCA Statio(RCA洗浄機)

・Piranha Clean(硫酸過水洗浄機)

・Resist Remover(レジスト除去装置)

・Oxide Wet Etcher(酸化膜ウェットエッチャー)

・Al Wet Etcher(アルミウェットエッチャー)

・Cu Wet Etcher(銅ウェットエッチャー)

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minimal Shizuoka Fab. (弊社静岡製作所内)
搬送ロボット

 
 


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