ウルトラソニック洗浄ユニット

超音波の液共振により発生するキャビテーションでパーティクルを除去します。

超音波発振器は高性能トランジスタを採用し、用途に合った出力と周波数を選択可能。

シリコンウェハー、磁気ディスク、レンズ、カセット（キャリア）等1μ以上のパーティクル除去に効果的です。

超音波による定在波の波長を連続的に変化させ超音波エネルギーの強弱を完全にクリアーします。

高洗浄度が要求され、ダメージも与えられないSi、GaAs、フォトマスク基板、磁気ディスク等の洗浄に最適です。